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接触
基本上，印刷电路板、触点或金属元件的表面特性是通过低浓度的酸、碱和离子来修饰的。
确保可靠地实现所需的性能，需要密切监测浴添加剂浓度。
镍浴中的硼酸和四氟硼酸:电位滴定法可以测定镀镍液中的游离硼酸和游离四氟硼酸。硼酸用作缓冲液以保持一定的pH值。
电镀液中的表面活性剂:将表面活性剂加入到电镀浴中以改善表面润湿并乳化亮剂。标准阴离子表面活性剂可以用电位滴定测定。
蚀刻液中的浓酸:离子色谱法可以通过测定酸和酸混合物的浓度来帮助你检查电镀液的含量。利用Metrohm内联稀释法，只需最小的0.25µL进样量，即可实现全自动分析。
电镀浴中有机酸：离子色谱法的另一个可能应用是测定电镀液中的有机和极性物质。采用离子排斥色谱法监测g/L范围内的柠檬酸、甲酸和乳酸。
相比之下，离子交换色谱法用于测定电解液中的无机(如亚磷酸、钨酸盐)和有机成分(如酒石酸、柠檬酸)或起始物质。
镍浴中的铅:铅在镍浴中起稳定剂的作用。此外，它对镍的沉积本身也有相当大的影响。槽液中的铅浓度必须保持在较低的mg/L范围内。使用伏安法，可以可靠、快速、轻松地监测镍浴中的铅。
镍浴中的锑/铋:在镍浴处理中，铅越来越多地被锑和(或)铋所取代。伏安法是锑铋监测的首选方法。
在PCB制造中，循环伏安剥离(CVS)和循环脉冲伏安剥离(CPVS)是测定有机添加剂的标准方法。
CVS方法是许多工业涂装过程中生产控制的重要组成部分，特别是在印刷电路板或半导体的制造中。
CVS / CPVS方法可帮助您确定添加剂的精确浓度。浴样品中的特定添加剂的实际浓度直接显示为每L添加剂。这使您可以获得精确随后的添加剂给药以满足目标浓度，从而确保植物的连续，无故障操作。
化学镍浴pH值监测:在化学镀镍浴中，增加外委的离子的盐浓度可以损害涂层性能或沉积速率。因此需要监测浴中的盐含量。使用我们的流程分析仪，您可以连续监控pH值并尽快采取适当的措施。
监测碱性锌浴中的碳酸盐:整理浴中碳酸盐的浓度随着时间的推移而增加。这损害了沉积特性，从而损害了浴的成本效率。我们的流程分析仪系列允许您连续监测碳酸盐浓度。
在涉及磷化过程的各种浴中，某些参数必须保持在指定的值，因此，必须进行监控。
您可以使用我们的流程分析仪在线监控这些值。